Samsung e Qualcomm hanno annunciato l'intenzione di espandere la loro partnership produttiva al processo litografico EUV (extreme ultra violet). Le due aziende sfrutteranno l'EUV per produrre chip mobile Snapdragon 5G con processo a 7 nanometri LPP (Low Power Plus).
Con la tecnologia produttiva 7LPP EUV sarà possibile realizzare chip di minori dimensioni, integrabili in design sottili e capaci di assicurare una maggiore durata della batteria. Samsung ha parlato di questo processo lo scorso maggio, illustrando la sua roadmap fino al 2020.
Allora l'azienda parlava di una "EUV source power", la potenza massima dei laser, pari a 250 watt, ottenuta grazie alla collaborazione con ASML, produttore olandese di sistemi litografici per l'industria dei semiconduttori. Secondo Samsung l'adozione della litografia EUV permetterà di andare oltre la Legge di Moore, "gettando le basi per semiconduttori a un singolo nanometro".
Samsung è convinta che serva una produzione di 1500 wafer al giorno per assicurare che EUV sia una soluzione produttiva. Nel maggio scorso l'azienda aveva già superato i 1000 wafer al giorno.
La litografia, lo ricordiamo, è il processo di riproduzione di un pattern complesso su un wafer partendo da una maschera. Il wafer è ricoperto con un polimero fotosensibile che viene inciso al fine di creare i componenti. EUV, ultravioletto estremo, è la porzione di spettro usata per l'incisione sul polimero che ricopre il wafer.
Rispetto all'attuale processo a 10 nanometri FinFET, la nuova litografia 7LPP EUV garantirà un aumento del 40% nell'efficienza d'area, con un 10% in più di prestazioni o fino al 35% in meno di consumi.