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Intel investirà 4 miliardi per un impianto produttivo in Irlanda

Intel ha ricevuto il via libera dalle autorità irlandesi per realizzare un nuovo impianto produttivo in Irlanda. Un investimento da circa 4 miliardi di dollari, che creerà occupazione durante la costruzione e anche dopo.

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Avatar di Manolo De Agostini

a cura di Manolo De Agostini

@Tom's Hardware Italia

Pubblicato il 24/01/2013 alle 17:49 - Aggiornato il 15/03/2015 alle 01:44
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Intel potrà iniziare la costruzione di un nuovo impianto produttivo in Irlanda. Si tratta di un investimento da 4 miliardi di dollari suddivisi in due/tre anni, anche se l'azienda ha dieci anni di tempo per esercitare il permesso ottenuto delle autorità locali. Per questo motivo non è ancora chiaro che tipo di produzione sarà avviata nel nuovo sito.

L'investimento dovrebbe offrire occupazione a 3500 persone durante la fase di costruzione e creare 800 impieghi a tempo pieno. A questi numeri si aggiungono inoltre gli oltre 4500 dipendenti che Intel ha già nel paese. Il nuovo impianto sorgerà nel campus di Leixilip, accanto alle altre fonderie e ai centri di ricerca presenti nel territorio.

Si sblocca così per Intel una situazione in stallo da diverso tempo. Il "Kildare County Council" aveva approvato il piano dell'azienda lo scorso agosto ma la decisione era stata impugnata dall'autorità nazionale per la pianificazione. Il via libera definitivo è arrivato in seguito alla modifica di alcune condizioni. 

Intel verserà più di 27 milioni di euro per migliorare i collegamenti stradali al sito. Il nuovo impianto avrà una superficie totale di diverse centinaia di metri quadrati (su più livelli), oltre a un parcheggio a più piani in grado di ospitare 2200 auto. La notizia arriva dopo la pubblicazione dei dati del quarto trimestre. 

In quell'occasione Intel ha stabilito le spese dedicate all'acquisto di asset durevoli nel 2013, fissandole tra 12,5 e 13,5 miliardi. Contestualmente è stata anche resa nota la volontà d'investire 2 miliardi per espandere l'impianto D1X di Hillsboro (Oregon) e avviare la produzione su wafer da 450 millimetri nel 2015.

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