Il processo di fabbricazione dei TFT è molto simile a quello usato per i semiconduttori a noi molto familiari.
Uno strato di cromo viene depositato su uno di vetro per essere utilizzato come griglia metallica per i transistor e i condensatori. Si applica quindi un altro sottile strato di ossido di silicio per la memoria-condensatore dielettrico. Un deposito di silicio amorfo crea un canale per il transistor. Si eccitano due zone con N+ per creare lo scarico e la sorgente. Infine, si deposita uno strato metallico per connettere il transistor (a sinistra) al condensatore di immagazzinamento (a destra). Questo strato fornisce anche la connessione al bus dati metallico. La griglia di cromo, connettendo tutti i transistor in riga, funzionerà da linea di indirizzamento orizzontale. Alla fine tutti i componenti vengono coperti da uno strato protettivo.
Siccome i transistor di silicio amorfo sono molto più scarsi rispetto ai transistor su sottostrato eccitato, si applica un voltaggio negativo di -5V alla griglia, in modo da assicurarsi che i transistor siano aperti (OFF). Una volta che lo strato di transistor è stato depositato, è possibile aggiungere il cristallo liquido.
Viene aggiunto un separatore per mantenere una certa distanza tra le due piastre di vetro in modo che non si tocchino; si deposita il cristallo liquido, seguito da un elettrodo ITO che funziona come elettrodo di riferimento; a questo punto si aggiungono i filtri dei colori (nel nostro esempio in verde), il pannello di vetro frontale e un altro polarizzatore orientato perpendicolarmente rispetto al primo.
Sopra il transistor si deposita un filtro di colore nero perchè il voltaggio non viene controllato in base all'elettrodo comune dato che dipende da quello presente sulla linea dati, che può comunque cambiare anche se questo particolare pixel non viene indirizzato. Quest'area dalla scarsa definizione viene nascosta agli utenti per evitare disagi alla visione.