Canon ha presentato una nuova tecnologia di litografia a nanoimpronte (NIL) in grado di produrre chip su processi di classe 5 nm, ponendosi come concorrente delle macchine di litografia ad ultravioletti estremi (EUV) di ASML.
La mossa di Canon è volta a offrire il suo strumento a una frazione del prezzo rispetto alle macchine EUV di ASML, aprendo la strada alla produzione di chip avanzati per le aziende più piccole e con risorse limitate.
Mentre le macchine EUV di oggi, con un'apertura numerica di 0,33, costano oltre 150 milioni di dollari, Canon ha lasciato intendere che la sua macchina NIL costerà circa 15 milioni di dollari.
Tuttavia, il prezzo finale deve ancora essere determinato e Canon non prevede che la NIL sostituirà completamente la litografia EUV e DUV tradizionale.
La NIL è una tecnologia che utilizza uno stampo che ha il design del circuito invece di una maschera fotografica per proiettare il modello del circuito direttamente sulla resistenza sulla fresa.
Questo processo può teoricamente ridurre i costi di produzione, ma è seriamente limitato dalla velocità e dalla tendenza a subire quei difetti dovuti al contatto diretto tra lo stampo e il substrato durante la stampa.
Canon è entrata in questo mercato in un momento in cui i divieti di esportazione degli strumenti EUV avanzati di ASML in Cina hanno creato una potenziale nicchia per la tecnologia di Canon.
Tuttavia, la tecnologia di Canon potrebbe richiedere licenze di esportazione dal governo giapponese a causa della sua capacità di produrre chip con processi inferiori a 14 nm.
Il capo di Canon, Fujio Mitarai, afferma che Canon sta già ricevendo molte richieste da parte dei clienti. Tuttavia, non si aspetta che la tecnologia delle nanoimpronte superi quella EUV, ma crede che possa aprire nuove opportunità e porsi come una valida alternativa per una determinata tipologia di clienti.