Un recente annuncio da parte di Canon potrebbe cambiare il modo in cui si creano chip più potenti e avanzati.
Fino a ora, l'olandese ASML ha dominato il mercato delle macchine EUV (litografia a estrema ultravioletto) necessarie per incidere schemi di circuiti incredibilmente sottili su fette di silicio, un processo fondamentale per la produzione di chip avanzati. Tuttavia, Canon ha annunciato una tecnologia di litografia a nanoimpronta (NIL) che afferma potrebbe rivoluzionare il settore.
La differenza chiave tra NIL e le macchine EUV tradizionali è il metodo di trasferimento dei circuiti. Mentre le macchine EUV proiettano uno schema di circuito su una fetta ricoperta di resistenza, il NIL utilizza una maschera imprimibile che viene premuta sulla fetta, simile a un timbro. Questo processo non passa attraverso un meccanismo ottico, il che significa che gli schemi di circuiti sulla maschera possono essere riprodotti fedelmente sulla fetta. Questo consente la creazione di schemi di circuiti bidimensionali o tridimensionali complessi in una sola impronta.
Attualmente, la tecnologia NIL è in grado di incidere schemi di circuiti con una larghezza minima di 14 nm, il che equivale alla produzione di chip da 5 nm. Canon prevede di migliorare ulteriormente la tecnologia delle maschere, consentendo a NIL di supportare una larghezza minima di 10 nm. Questo aprirebbe la strada alla produzione di chip da 2 nm, una dimensione che solo le macchine EUV di ASML erano considerate in grado di gestire fino a ora.
Alcuni esperti, però, rimangono scettici. Gaurav Gupta, analista di Gartner, ha dichiarato che sarebbe sorpreso se Canon avesse improvvisamente raggiunto una svolta tecnica così importante. Sebbene la litografia a nanoimpronta sia un concetto noto da tempo, sono anche abbastanza riconosciuti i problemi legati a difetti e altre complicazioni.
Un'altra considerazione importante è l'accesso a questa tecnologia. ASML non vende infatti le sue macchine EUV alla Cina a causa delle sanzioni statunitensi, ma Canon potrebbe avere più libertà per esportare la tecnologia NIL, poiché non utilizza le componenti avanzate delle macchine EUV. Questo solleva la possibilità che le foundry cinesi, come SMIC, possano ottenere la capacità di produrre chip da 5 nm e persino da 2 nm.
Questa situazione potrebbe portare a tensioni geopolitiche simili a quelle viste con il divieto statunitense su Huawei. Gli Stati Uniti potrebbero cercare di bloccare la vendita della tecnologia NIL alla Cina per preservare il proprio vantaggio tecnologico e la sicurezza nazionale.
Insomma, si può dire che siamo dinanzi a una serie di criticità evidenti. Non resta che attendere e capire se si troverà una soluzione e soprattutto se Canon confermerà la possibilità che questa tecnologia funzioni realmente.
