Nel quarto trimestre del 2019 SMIC ha avviato la produzione in volumi col suo nodo FinFET a 14nm. La fonderia cinese sta ora lavorando a un nuovo processo, chiamato N+1, con caratteristiche paragonabili alla litografia a 7nm della concorrenza.
Rispetto al proprio processo produttivo a 14nm, la produzione tramite il nuovo processo N+1 riduce il consumo energetico dei chip del 57%, ne aumenta le prestazioni del 20% e ne riduce l'area logica fino al 63%, secondo quanto dichiarato da Liang Mengsong, co-CEO di SMIC. In altre parole, i chip prodotti con questa tecnologia sono più piccoli, più efficienti e leggermente più potenti.
SMIC ha rilasciato la seguente dichiarazione: “N+1 è destinato per la produzione di chip di fascia bassa; permette di ridurre i costi del 10 percento rispetto ai 7nm della concorrenza".
SMIC è in ritardo di quasi tre anni rispetto TSMC ma ciò è comprensibile considerando i grandi investimenti necessari per il miglioramento delle tecniche litografiche.
Questo nodo non utilizza la litografia a ultravioletti estremi (EUVL), tecnologia che arriverà nel nodo N+2 a causa delle restrizioni imposte dagli Stati Uniti. La società prevede di avviare la risk production nel Q4 del 2020 e la produzione in volumi nel 2021/2022.
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