Il ministro delle Finanze israeliano, Moshe Kahlon, ha annunciato che Intel investirà 10,9 miliardi di dollari in un nuovo impianto per la produzione di chip in Israele. Si tratta dell’ennesimo investimento nel paese del Medio Oriente, dopo i 5 miliardi che Intel si è impegnata a spendere entro il 2020 per aggiornare l’impianto esistente di Kiryat Gat (Fab 28).

“I vertici di Intel ci hanno informato della decisione di investire altri 10,9 miliardi di dollari in Israele, una decisione senza precedenti che dovrebbe portare migliaia di posti di lavoro nel sud del paese”, ha affermato Kahlon senza aggiungere altri dettagli.

Secondo il sito israeliano Globe, per l’investimento Intel riceverà una sovvenzione pari al 10%, ossia oltre 1 miliardo di dollari, più del doppio di quanto ottenuto per l’espansione dell’attuale impianto di Kiryat Gat.

Intel, stando al quotidiano, starebbe già preparando l’infrastruttura per il nuovo sito di produzione. Lo scorso dicembre Intel ha annunciato un piano pluriennale di espansione dei siti produttivi situati in Oregon, Irlanda e Israele. Oltre ai progetti in Medio Oriente, la casa di Santa Clara avrebbe intenzione di avviare i lavori per la creazione di una terza sezione del suo impianto di Hilsboro, noto come D1X, entro la fine di giugno.

L’obiettivo di Intel è aumentare la capacità produttiva in vista della produzione a 10 e soprattutto 7 nanometri, in modo da lasciarsi alle spalle anni di produzione a 14 nanometri culminati con un eccesso di domanda che ha portato Intel in questi mesi a prediligere la produzione di processori Xeon e Core di fascia alta, creando una situazione di carenza (shortage), che dovrebbe essere superata in modo definitivo nel terzo trimestre di quest’anno.